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主要型号：
型号 | 功率(W) | 工作电压（V） | 最大峰值电流（A） | 外形尺寸 | 冷却方式 |
MS-10A | 400W | -40~+40 | -10~+10 | 482*175*550 (WHD)[4U] | 风冷 |
MS-20A | 800W | -40~+40 | -20~+20 | ||
MS-30A | 1200W | -40~+40 | -30~+30 |
主要特点：
A 可选择三角波、矩形波、正弦波三种波形，波形的最高值和最低值可独立设置。
B输出电压范围：-40V~+40V。
C波形频率范围：0.1-50Hz
D三角波、矩形波占空比10%~90%
E 可选择手动控制/模拟量接口控制，可选配RS485通讯接口。
采用先进的PWM脉宽调制技术，使用进口IGBT或MOSFET作为功率开关器件，
体积小、重量轻、功能全、性能稳定可靠，生产工艺严格完善。
该系列产品采用先进的DSP控制系统，充分保证镀膜工艺的重复性，
并且具有抑制靶材弧光放电及抗短路功能，
具有极佳的负载匹配能力，既保证了靶面清洗工艺的稳定性，又提高了靶面清洗速度；
主要参数均可大范围连续调节；
方便维护，可靠性高；
PLC接口和RS485接口扩展功能，方便实现自动化控制。
主要用途：
MS系列励磁多波形电源选择多种电压波形输出。通过驱动多弧靶外围磁场线圈，产生周期性可变磁磁场，使多弧辉光由原来的集中放电变为均匀放电，提高工件膜层质量
真空镀膜电源厂家告诉你高频开关电镀电源应用在金属表面处理及小功率范围内的国内市场已经接受，具有广阔的市场前景。但产品主要局限于1500A以下的中小功率领域，在国内也只有少量厂家生产，从技术角度看主要限于硬开关变换模式和模拟控制方式，可靠性、EMC及工艺结构等方面具有明显的局限性，同焊接等领域全面推广应用开关式电源的景况具有较大差距。
真空镀膜是指在高真空的条件下加热金属或非金属材料，使其蒸发并凝结于镀件（金属、半导体或绝缘体）表面而形成薄膜的一种方法。
真空镀膜这一块是真空应用领域的重要方面，在真空中以真空技术为基础，把物理方法和化学方法利用起来，通过吸收分子束、离子束、电子束、等离子束、射频和磁控等一系列高新技术，在科学研究和实际生产中，为薄膜制备提供一种新工艺，简单的一点来说，要在真空中利用合金、金属或化合物进行蒸发和溅射，并让被涂覆的物体（有基片、称基板、基体等等）进行凝固并沉积，这种方法称为真空镀膜，那真空镀膜电源就可想而知，众所周知，在一些材料的表面上镀上一层薄膜，就可以使这种材料具有多种性能，例如良好的物理和化学性能并且是崭新的；
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