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真空镀膜电源厂家
MSDP单极脉冲磁控溅射电源

MSDP单极脉冲磁控溅射电源

  • 所属分类:MSDP单极脉冲磁控溅射电源
  • 浏览次数:
  • 发布日期:2020-10-21 09:43:33
  • 产品概述
  • 性能特点
  • 技术参数

主要型号:

型号

功率

(kW)

最大工作

电流(A)

外形

尺寸

冷却

方式

空载电压

(V)

工作电压

(V)

MSDP-10k

10

12.5

1单元



风冷



1000



200~800V

MSDP-20k

20

25

1单元

MSDP-30k

30

37.5

2单元

MSDP-40k

40

50

2单元


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主要特点:
   A 明显改善靶面电荷积累现象,减小溅射表面的打火次数,提高膜层质量。
   B 具有平均电源稳定功能,具有理想的电压陡降特性,
充分满足磁控溅射工艺过程的连续性。
   C 空载电压≥1000V,工作电压200~800V。
   D 频率40kHz,占空比20%~80%。
   E 可选择手动控制/模拟量接口控制,可选配RS485通讯接口。
采用先进的PWM脉宽调制技术,使用进口IGBT或MOSFET作为功率开关器件,
体积小、重量轻、功能全、性能稳定可靠,生产工艺严格完善。
该系列产品采用先进的DSP控制系统,充分保证镀膜工艺的重复性,
并且具有抑制靶材弧光放电及抗短路功能,
具有极佳的负载匹配能力,既保证了靶面清洗工艺的稳定性,又提高了靶面清洗速度;
主要参数均可大范围连续调节;
方便维护,可靠性高;
PLC接口和RS485接口扩展功能,方便实现自动化控制。


主要用途:

单极脉冲磁控溅射适用于金属、合金及石墨等靶材镀制金属膜、碳膜和部分氧化物、氮化物及碳化物膜。


镜片在接受镀膜前必须进行预清洗,这种清洗要求很高,达到分子级。在清洗槽中分别放置各种清洗液,并采用超声波加强清洗效果,当镜片清洗完后,放进真空舱内,在此过程中要特别注意避免空气中的灰尘和垃圾再黏附在镜片表面。最后的清洗是在真空舱内,在此过程中要特别注意避免空气中的灰尘和垃圾再黏附在镜片表面。最后的清洗是在真空舱内镀前进行的,放置在真空舱内的离子枪将轰击镜片的表面(例如用氩离子),完成此道清洗工序后即进行减反射膜的镀膜。

真空镀膜电源为什么在现在会应用那么多呢,有哪些明显的效果?

真空镀膜电源

概念的区别:

1、真空镀膜是指在高真空的条件下加热金属或非金属材料,使其蒸发并凝结于镀件(金属、半导体或绝缘体)表面而形成薄膜的一种方法。例如,真空镀铝、真空镀铬等。


2、光学镀膜是指在光学零件表面上镀上一层(或多层)金属(或介质)薄膜的工艺过程。在光学零件表面镀膜的目的是为了达到减少或增加光的反射、分束、分色、滤光、偏振等要求。常用的镀膜法有真空镀膜(物理镀膜的一种)和化学镀膜。


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