MS系列励磁多波形电源

主要型号：

主要特点：
   A 可选择三角波、矩形波、正弦波三种波形，波形的蕞高值和蕞低值可独立设置。
   B输出电压范围：-40V~+40V。
   C波形频率范围：0.1-50Hz
   D三角波、矩形波占空比10%~90%
   E 可选择手动控制/模拟量接口控制，可选配RS485通讯接口。
采用先进的PWM脉宽调制技术，使用进口IGBT或MOSFET作为功率开关器件，
体积小、重量轻、功能全、性能稳定可靠，生产工艺严格完善。
该系列产品采用先进的DSP控制系统，充分保证镀膜工艺的重复性，
并且具有抑制靶材弧光放电及抗短路功能，
具有极佳的负载匹配能力，既保证了靶面清洗工艺的稳定性，又提高了靶面清洗速度；
主要参数均可大范围连续调节；
方便维护，可靠性高；
PLC接口和RS485接口扩展功能，方便实现自动化控制。

主要用途：

MS系列励磁多波形电源选择多种电压波形输出。通过驱动多弧靶外围磁场线圈，产生周期性可变磁磁场，使多弧辉光由原来的集中放电变为均匀放电，提高工件膜层质量

现在工业区，在范围上扩展的是越来越广，跟随我们行业的发展，现在机械设备研发的是越来越多，当然啦，研发那么多，在一些加工厂家肯定是要应用到的啦，在范围上，在数量上都不会少，现在我们来了解下真空镀膜电源这项项目吧！

1、在光学仪器中：人们熟悉的光学仪器有望远镜、显微镜、照相机、测距仪，以及日常生活用品中的镜子、眼镜、放大镜等，它们都离不开镀膜技术，镀制的薄膜有反射膜、增透膜和吸收膜等几种。

2、在信息存储领域中：薄膜材料作为信息记录于存储介质，有其得天独厚的优势：由于薄膜很薄，可以忽略涡流损耗；磁化反转极为迅速；与膜面平行的双稳态状态容易保持等。为了更精密地记录与存储信息，必然要采用镀膜技术。

3、在传感器方面：在传感器中，多采用那些电气性质相对于物理量、化学量及其变化来说，极为敏感的半导体材料。此外，其中，大多数利用的是半导体的表面、界面的性质，需要尽量增大其面积，且能工业化、低价格制作，因此，采用薄膜的情况很多。

4、在集成电路制造中：晶体管路中的保护层（SiO2、Si3N4）、电极管线（多晶硅、铝、铜及其合金）等，多是采用CVD技术、PVCD技术、真空蒸发金属技术、磁控溅射技术和射频溅射技术。可见，气相沉积是制备集成电路的核心技术之一。