脉冲磁控溅射电源简介

说起单极脉冲磁控溅射电源，可能有点困惑，但我想说的是，它是对直流磁控溅射电源的升级，是不是突然明白了？脉冲磁控溅射是用矩形波电压脉冲电源代替传统直流电源的一种方法。脉冲溅射可以有效地抑制电弧的产生，消除由此产生的薄膜缺陷，同时可以提高溅射的沉积速率，降低沉积温度等一系列显著优点，是溅射绝缘材料沉积的精选工艺。一个周期有正电压和负电压两个阶段，在负电压段中，电源作用于靶材的溅射，正电压段将电子积累的正电荷引入靶材表面，使表面清洁，露出金属表面。施加在靶材上的脉冲电压与一般磁控溅射的脉冲电压相同！对于400~500V，电源频率在10~350KHz，在保证稳定放电的前提下，应尽可能低地取频率#因为等离子体中的电子相对于离子具有更高的迁移率，所以正电压值只需要是负电压的10%到20%，就可以有效地中和积聚在靶表面的正电荷。占空比的选择确保了溅射过程中靶表面积累的电荷在正电压阶段可以完全被中和，从而尽可能地提高占空比，以实现电源的较大效率。

单极脉冲磁控溅射电源的优点是，它可以有效地抑制电弧的产生，消除由此产生的薄膜缺陷，同时可以提高溅射的沉积速率，降低沉积温度等一系列显著优点，是沉积溅射绝缘材料的较佳工艺