稳定度:长期输出 ≤ ±0.1%(72h 满负荷)
纹波:直流 / 脉冲 ≤ 0.05%–0.1%
精度:电压 / 电流 / 功率 ≤ ±0.1%–±0.5%
抑弧:灭弧响应 <1μs–500μs,弧能量 <0.2mJ/kW
阻抗匹配:负载阻抗比 ≥ 1:100(高端≥1:200)
连续运行:7×24h 无故障,MTBF ≥ 100,000h
进口标杆
超低纹波、宽范围恒压 / 恒流,适配高精度光学沉积
稳定度 ≤±0.1%,纹波 <0.05%,精度 ±0.1%
适用:光学玻璃、镜片、显示面板、半导体晶圆
TRUMPF Hüttinger TruPlasma DC 4000/6000 系列
Advanced Energy (AE) Pinnacle Plus 系列
国产优选
纹波 <0.1%,稳定度 ≤±0.1%,性价比高
稳定度 5×10⁻⁴(万分之五),纹波 <0.08%
适配光学镀膜机,可替代进口同档
精新 JX-DC 高精度直流系列
英能 EPS-DC 高精度直流系列
进口标杆
射频 / 中频双模式,适配半导体量产线
13.56MHz 射频,自动匹配,功率稳定 ±0.5%
适用:PECVD、ALD、半导体薄膜沉积
TRUMPF Hüttinger TruPlasma RF 13.56MHz 系列
AE RFX 系列 / Dressler Cesar 系列
国产优选
平衡输出,抑制打弧,适配反应溅射(SiO₂、SiNₓ)
自动匹配,谐波抑制,稳定度 ≤±0.5%
精新 JX-RF 射频系列(13.56MHz)
英能 BS 系列中频电源(40kHz)
进口标杆
纳秒级脉冲控制,稳定度 ≤±0.1%,弧能量 <0.2mJ/kW
适用:半导体、光学、高端刀具、DLC
TRUMPF Hüttinger TruPlasma HiPIMS 4000/6000 系列
国产优选
纳秒检测,多波形,智能温控,适配量产
双机制抑弧,稳定度 5×10⁻⁴,可替代霍廷格同档
精新 JX-HiPIMS Max 系列
新铂 HiPIM5-100A
进口标杆
电压精度 ±0.5%,频率稳定 30ppm,阻抗比 1:100
精密镀膜偏压 / 离子辅助首选
TRUMPF Hüttinger TruPlasma Bias 4020 系列
国产优选
抑弧响应 <500μs,三模式(恒压 / 恒流 / 恒功率),效率 ≥90%
1kHz–150kHz 宽频,脉宽 3μs–495μs,阻抗比 1:9(行业领先)
电压精度 ±0.5%,重复性 ≤±0.2%,兼容 4020 接口
精新 JX-MSB 系列(直接替代 4020)
英能 MS 系列
表格
| 工艺场景 | 首选进口型号 | 首选国产型号 | 核心优势 |
|---|---|---|---|
| 光学镀膜(玻璃 / 镜片) | TruPlasma DC 4000 | 精新 JX-DC / 英能 EPS-DC | 超低纹波、超高稳定 |
| 半导体 / PECVD | TruPlasma RF 13.56MHz | 精新 JX-RF / 英能 BS | 自动匹配、谐波抑制 |
| HIPIMS/DLC/ 超薄膜 | TruPlasma HiPIMS 4000 | 精新 JX-HiPIMS / 新铂 HiPIM5-100A | 纳秒脉冲、微弧抑制 |
| 脉冲偏压 / 离子辅助 | TruPlasma Bias 4020 | 精新 JX-MSB / 英能 MS | 宽频、高精度、宽阻抗 |
优先匹配工艺:光学选高精度直流;半导体选射频 / 中频;硬质膜选HIPIMS;偏压选高频脉冲。
参数硬指标:稳定度 ≤±0.1%、纹波 <0.1%、抑弧 <500μs、阻抗比 ≥1:100。
可靠性验证:要求 72h 满负荷测试报告、MTBF≥10 万小时、第三方 CMA/CNAS 检测。
接口与兼容:支持 Profinet/EtherNet/IP,兼容主流 PLC,适配真空系统联动。
国产替代:精新 JX 系列(DC/RF/HiPIMS/MSB)可直接对标并替代霍廷格同档型号,性价比与售后更优。
高端光学 / 半导体量产:首选 TRUMPF Hüttinger 全系列(DC/RF/HiPIMS/Bias 4020)。
追求性价比与国产替代:首选 精新 JX 系列(JX-DC/JX-RF/JX-HiPIMS/JX-MSB),性能对标进口,价格与售后更优。
中小规模精密镀膜:英能 DC/BS/MS 系列,满足精度要求,成本更低。