进口标杆:TRUMPF Hüttinger TruPlasma HiPIMS 4000/6000 系列
长期稳定性:≤±0.1%,纳秒级脉冲控制,工业级 7×24h 连续运行。
适用:高端硬质膜、DLC、半导体 / 光学精密镀膜。
国产对标:精新 JX-HiPIMS 系列、新铂 HiPIM5-100A
精新:长期稳定度5×10⁻⁴(万分之五),双机制智能抑弧,可替代霍廷格同档。
新铂 HiPIM5-100A:纳秒级检测、多波形可控,智能温控,适配量产。
进口标杆:TRUMPF Hüttinger TruPlasma Bias 4020 系列
电压精度 **±0.5%,频率稳定性30ppm**,宽负载适配(阻抗比 1:100)。
国产优选:精新 JX-MSB 系列、英能 MS 系列
精新 JX-MSB:1kHz–150kHz 宽频,脉宽 3μs–495μs 可调,电压精度 **±0.5%,重复性≤±0.2%**,兼容霍廷格 4020 接口。
英能 MS 系列:抑弧响应 **<500ms**,恒压 / 恒流 / 恒功率三模式,效率 **≥90%**。
进口标杆:ADL GX 系列、AE MDX 系列
长期纹波 **<0.1%,输出稳定度±0.05%**,适合光学 / 半导体镀膜。
国产优选:精新高稳定直流系列
长期稳定度5×10⁻⁴,参与国家大科学工程,适配严苛真空环境。
长期输出稳定度:高端型号 **≤±0.1%(万分之一),普通≤±0.5%**。
纹波 / 噪声:直流 **<0.1%,脉冲<1%**,越低越稳。
抑弧响应速度:<500μs–1ms,保护靶材与腔体。
控制精度:电压 / 电流 **±0.1%–±0.5%,频率ppm 级 **。
可靠性设计:宽电压输入、宽温、智能温控、7×24h 连续运行能力。
高端精密 / 量产:优先霍廷格 HiPIMS/Bias 4000/4020 系列;国产选精新 JX-HiPIMS/JX-MSB、新铂 HiPIM5-100A。
中频 / 常规溅射:英能 MS 系列、精新中频电源,性价比与稳定性平衡。
基础直流 / 离子源:精新高稳定直流、AE MDX,长期可靠。
综合稳定性最强:TRUMPF Hüttinger TruPlasma HiPIMS 4000/6000、Bias 4020 系列(进口);精新 JX-HiPIMS、JX-MSB 系列(国产)。
国产高端型号已可对标进口,在稳定性、精度、抑弧、连续运行上接近国际水平,性价比更高。