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关于真空离子镀膜的作用

2020-07-25 00:00:00

真空镀膜电源厂家的在真空离子镀膜中,尤其对于多弧离子镀膜,无论是装饰镀还是工具镀,轰偏电源的好坏对于成膜质量都起着非常关键的作用。装饰镀和工具镀对膜层质量的要求有相同之处又各有侧重。

离子源电源

离子镀是真空室中,利用气体放电或被蒸发物质部分离化,在气体离子或被蒸发物质粒子轰击作用的同时,将蒸发物或反应物沉积在基片上。离子镀把 辉光放电现象、 等离子体技术和真空蒸发三者有机结合起来,不仅能明显地改进了膜质量,而且还扩大了薄膜的应用范围。多弧电源其优点是薄膜 附着力强,绕射性好,膜材广泛等。D.M.首次提出离子镀原理,起工作过程是:


先将真空室抽至4×10(-3)帕以上的真空度,再接通高压电源,在蒸发源与基片之间建立一个低压气体放电的 低温等离子区。基片电极接上5KV直流负高压,从而形成光放电阴极。辉光放电去产生的惰性气体离子进入阴极暗区被电场加速并轰击基片表面,对其进行清洗。然后计入镀膜过程,加热使镀料气化,起原子进入等离子区,与惰性气体离子及电子发生碰撞,少部分产生离化。离化后的例子及气体离子以较高能量轰击镀层表面,致使膜层质量得到改善。


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