主要型号:
型号 | 功率(kW) | 工作峰值电压(V) | 最大工作电流(A) | 最大峰值电(A) | 主机外形尺寸 | 冷却方式 |
HVP-2500V | 2.5 | 2.5kV | 2.5A | 50 | 482*175*550 (WHD)[4U] | 风冷 |
HVP-3500V | 2.5 | 3.5kV | 1.5A | 30 |
主要特点:
A具有行动稳定电压功能,具有理想的电压陡降特性,
有效抑制工件表面打火,明显提高镀件的成品率、表面光洁度和膜层结合力。
B 电压脉冲输出峰值可达3500V。
C 频率1k~2kHz,占空比1%~5%(最 大脉冲宽度25uS)。
D 可选择手动控制/模拟量接口控制,可选配RS485通讯接口。
采用先进的PWM脉宽调制技术,使用进口IGBT或MOSFET作为功率开关器件,
体积小、重量轻、功能全、性能稳定可靠,生产工艺严格完善。
该系列产品采用先进的DSP控制系统,充分保证镀膜工艺的重复性,
并且具有抑制靶材弧光放电及抗短路功能,
具有极佳的负载匹配能力,既保证了靶面清洗工艺的稳定性,又提高了靶面清洗速度;
主要参数均可大范围连续调节;
方便维护,可靠性高;
PLC接口和RS485接口扩展功能,方便实现自动化控制。
主要用途:
高压窄脉冲电源适用于特殊镀膜工艺时被镀工件表面的辉光清洗、镀膜前的离子轰击和镀膜时的离子加速等。
社会不断发展,技术也是不断得在创新。真空镀膜电源的运用范围是越来越广泛了,真空镀膜技术是一种新颖的材料合成与加工的新技术,是表面工程技术领域的重要组成部分。随着全球制造业高速发展,真空镀膜技术应用越来越广泛。从半导体集成电路、LED、显示器、触摸屏、太阳能光伏、化工、制药等行业的发展来看,对真空镀膜设备、技术材料需求都在不断增加,包括制造大规模集成电路的电学膜;数字式纵向与横向均可磁化的数据记录储存膜;充分展示和应用各种光学特性的光学膜;计算机显示用的感光膜;TFT、PDP平面显示器上的导电膜和增透膜;建筑、汽车行业上应用的玻璃镀膜和装饰膜;包装领域用防护膜、阻隔膜;装饰材料上具体各种功能装饰效果的功能膜;工、模具表面上应用的耐磨超硬膜;纳米材料研究方面的各种功能性薄膜等。对于国内真空镀膜设备制造企业发展建议如下:
1、目前实体经济走势整体疲弱,复苏充满不确定性,经济处于继续探底过程,真空镀膜设备制造企业应着力进行产业结构优化升级,重质量、重服务明确市场定位,大力研发拥有自主知识产权的新产品新工艺,提高产品质量和服务水平。
2、依托信息化发展趋势,坚持“以信息化带动工业化,以工业化促进信息化”,走出一条科技含量高、经济效益好、资源消耗低、环境污染少、人力资源优势得到充分发挥的新型工业化路子。
3、依托政府支持,大力加强与拥有行业先进技术和工艺水平的科研院所、大型企业、高校合作,使得新品能迅速推向市场。
真空镀膜技术及设备拥有十分广阔的应用领域和发展前景。未来真空镀膜设备行业等制造业将以信息化融合为重心,依靠技术进步,更加注重技术能力积累,制造偏向服务型,向世界真空镀膜设备行业等制造业价值链高端挺进。